微流控真空镀膜加工厂-半导体研究所-浙江微流控真空镀膜

微流控真空镀膜mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

真空镀膜机溅射溅射工艺介绍

真空镀膜机溅射溅射工艺主要用于溅射刻蚀和薄膜沉积两个方面。溅射刻蚀时，被刻蚀的材料置于靶极位置，浙江微流控真空镀膜，受离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。溅射刻蚀时，应尽可能从溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体，使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体，通过真空系统从溅射室中排出。沉积薄膜时，溅射源置于靶极，微流控真空镀膜加工厂商，受离子轰击后发生溅射。如果靶材是单质的，微流控真空镀膜加工厂，则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜；若在溅射室内有意识地引入反应气体，使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底，便可形成靶极材料的化合物薄膜。

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哪些溅射靶材可用于热反射镀膜

钛溅射靶材

钛溅射靶材常用于五金工具镀膜、装饰镀膜、半导体元件、平板显示器镀膜等。它是制备集成电路的材料之一，纯度通常要求在99.99%以上。aem 提供钛合金靶材，例如钨钛 (w/ti 90/10 wt%) 溅射靶材，这是半导体和太阳能行业的重要材料。w/ti溅射靶材密度可达14.24 g/cm3以上，纯度可达99.995%。

铝溅射靶材

铝是一种银白色的金属材料。它可以在厨房用具、汽车、路灯和食品包装中的铝箔中找到。虽然它不是一种坚固的材料，但它是热和电的良导体，可以形成耐腐蚀的氧化层。如果在真空中蒸发，铝层会形成望远镜、汽车前照灯、镜子、包装和玩具上的反射涂层。铝溅射靶材广泛应用于航空航天、汽车照明、oled、光学等行业。一些高纯度铝靶材用于半导体芯片、平板显示器和太阳能电池行业。