半导体光刻加工价格-四川半导体光刻加工-半导体加工

微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一

接触式光刻机，---时，光刻版压在涂有光刻胶的衬底上，优点是设备简单，分辨率高，没有衍射效应，缺点是光刻版与涂有光刻胶的晶圆片直接接触，每次接触都会在晶圆片和光刻版上产生缺陷，降低光刻版使用寿命，成品率低。

光刻胶是光刻工艺的材料：光刻胶又称光致抗蚀剂，半导体光刻加工外协，它是指由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分构成的对光敏感的混合液体。

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微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

光刻胶是由光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂组成。

光刻可能会出现显影不干净的异常，主要原因可能是显影时间不足、显影溶液使用周期过长，溶液溶解胶量较多、---时间不足，主要的解决方法有增加显影时间、更换新的显影液，增强溶液溶解能力、增加---时间。

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