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氮化镓材料刻蚀加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，硅柱材料刻蚀加工厂商，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

物理上i，等离子体刻蚀剂由反应室、真空系统、气体供应、终点检测和电源组成。

氮化镓基超表面结构当中，台湾材料刻蚀加工厂商，氮化镓材料的刻蚀需要使用氧化硅作为掩膜来刻蚀，而氧化硅的刻蚀需要使用cr充当硬掩模。所以工艺当中，需要先在氮化镓表面使用pecvd沉积一层氧化硅，采用剥离的方法在氧化硅表面生长一层cr，使用icp设备依次刻蚀氧化硅和氮化镓。

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按照被刻蚀的材料类型来划分，干法刻蚀主要分成三种：金属刻蚀、介质刻蚀和硅刻蚀。

刻蚀是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性刻蚀的技术，它是半导体制造工艺，微电子ic制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化处理的一种主要工艺。刻蚀分为干法刻蚀和湿法腐蚀。原位芯片目前掌握多种刻蚀工艺，并会根据客户的需求，设计刻蚀效果好且高的刻蚀解决方案。刻蚀技术主要应用于半导体器件，集成电路制造，薄膜电路，印刷电路和其他微细图形的加工等。广东省科学院半导体研究所。

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