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微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

敏感度决定了光刻胶上产生一个---的图形所需一定波长光的能量值。抗蚀性决定了光刻胶作为覆盖物在后续刻蚀或离子注入工艺中，不被刻蚀或抗击离子轰击，从而保护被覆盖的衬底。光刻胶依据不同的产品标准进行分类：按照化学反应和显影的原理，光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。如果显影时未---部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶；如果显影时---部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，重庆---光刻芯片，称为正性光刻胶。根据感光树脂的化学结构来分类，光刻胶可以分为光聚合型、光分解型和光交联型三种类别。

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在完成图形的---后，用激光---硅片边缘，然后在显影或特殊溶剂中溶解；

光刻是微纳加工当中不可或缺的工艺，主要是起到图形化转移的作用。常规的光刻分为有掩膜光刻和无掩膜光刻。无掩膜光刻主要是电子束---和激光直写光，有掩膜光刻主要是接触式---、非接触式---和stepper光刻。对于有掩膜光刻，首先需要设计光刻版，常用的设计软件有cad、l-edit等软件。

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