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微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

光刻是通过特定的生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分去除的工艺，需要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准---、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测的等多道工序。光刻掩膜版类似于相机---后的底片，mems光刻芯片价格，应用于对集成电路进行投影定位。光掩膜版的制作有专门的制版设备，一般都是用激光直写光刻设备做出来的。

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光刻胶涂覆后，在硅片边缘的正反两面都会有光刻胶的堆积。

光刻（photolithography)是一种图形转移的方法，在微纳加工当中不可或缺的技术。光刻是一个比较大的概念，其实它是有多步工序所组成的。

1.清洗：清洗衬底表面的有机物。

2.旋涂：将光刻胶旋涂在衬底表面。

3.---。将光刻版与衬底对准，在紫外光下---一定的时间。

4.显影：将---后的衬底在显影液下显影一定的时间，受过紫外线---的地方会溶解在显影液当中。

5.后烘。将显---的衬底放置热板上后烘，以增强光刻胶与衬底之前的粘附力。

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