半导体材料刻蚀版厂家-辽宁材料刻蚀版厂家-半导体微纳

材料刻蚀版厂家——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

下面分别介绍各种薄膜的腐蚀方法流程：

二氧化硅腐蚀：

在二氧化硅硅片腐蚀机中进行，国内腐蚀机做的比较好的有广东省科学院半导体研究，腐蚀液是由hf、nh4f、与h2o按一定比例配成的缓冲溶液。腐蚀温度一定时，半导体材料刻蚀版厂家，腐蚀速率取决于腐蚀液的配比和sio2掺杂情况。掺磷浓度越高，深硅刻蚀材料刻蚀版厂家，腐蚀越快，掺硼则相反。sio2腐蚀速率对温度敏感，温度越高，腐蚀越快。

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二氧化硅腐蚀后检查：

1、窗口内无残留sio2（去胶重新光刻）；

2、窗口内无氧化物小岛（去胶重新光刻）；

3、窗口边缘无过腐蚀（去胶重新光刻）；

4、窗口内无染色现象（报废）；

5、氧化膜无腐蚀（去胶重新光刻）；

6、氧化膜无划伤等（去胶重新光刻）。

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