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pvd技术出现于二十世纪七十年代末，真空镀膜机镀膜技术制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、---的耐磨性和化学稳定性等优点。初在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视，人们在开发、高---性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了深入的涂层应用研究。
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光学真空镀膜设备镀制光学薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为：反射膜、增透膜/减反射膜、滤光片、偏光片/偏光膜、补偿膜/相位差板、配向膜、扩散膜/片、增亮膜/棱镜片/聚光片、遮光膜/黑白胶等，相关衍生的种类有光学级保护膜、窗膜等，应用领域非常广泛和普及
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pvd（physical vapor deition）即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的---的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基底上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，---具有膜层附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等特点。
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