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在半导体工艺里,沉积是指在原子或分子水平上,将材料沉积在晶圆表面作为一个薄层的过程。沉积工艺就像是喷涂刷,将涂料均匀的薄薄喷洒在晶圆表面上。

根据实现方法的不同,沉积主要分为物理气相沉积(pvd)和化学气相沉积(cvd)。

pvd是利用物理方法,将材料源气化成气态原子、分子,或电离成离子,并通过低压气体,在基体表现沉积成薄膜的过程。一般用来沉积金属薄膜。

cvd是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物,在衬底表面进行化学反应形成薄膜的方法。一般用于沉积半导体或绝缘体,以及金属合金等。

为了增强化学反应,cvd也可以与其他方法相结合。如pecvd(等离子增强cvd,就是利用等离子体来化学反应,半导体光刻技术价格,---cvd的方法。

根据不同目标和需求,pvd和cvd在实际工艺流程中也可以自由选择。




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说完了sic,再来说说gan。在上世纪90年代以前,因为缺乏合适的单晶沉底材料,而且位错密度比较大,其发展缓慢,但进入90年代以后,其发展迅速,年均增长率达30%,已经成为大功率led的关键性材料。


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在芯片晶圆上,有一些特殊的部分和特定的名称,比如:

wafer:指整张晶圆chip、die:是指一小片带有电路的硅片划片道(scribe line):指die与die之间无功能的空隙,半导体光刻技术技术,可以在这些安全的切割晶圆,而不会损坏到电路测试单元:一些用于表征wafer工艺性能的测试电路单元,规律分布于wafer各位置边缘die(edge die):wafer边缘的一部分电路,通常这部分因为工艺一致性或切割损坏,会被损失。这部分损失在大的晶圆片中占比会减少切割面(flat zone):被切成一个平面的晶圆的一条边,可以帮助识别晶圆方向

晶圆制备完成后,半导体的画布就形成了。后续半导体工艺由此开始。



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