光电器件微纳加工实验室-半导体-天津微纳加工实验室

微纳加工实验室——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

cmos设计和mems设计的区别

　cmos被称为互补金属氧化物半导体，是ic集成电路制造工艺中的一种，使用广泛。

　　mems中文名微电子机械系统，是具备独立功能的智能系统。主要研究方向是在微小结构下结合相应机械结构，完成一些独立的功能。

　　从设计思路上看：cmos电路通常是从上往下设计的，更适合复杂微系统设计，同时还需要设计预定义工艺模块；而mems设计正好相反，大多从下往上设计，且需建立特殊工艺文件。

　　mems和cmos有很多相近的地方，将mems和cmos相结合是目前研究的火热方向。

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微纳加工实验室——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

在mems加工工艺中，从上到毫米，再下到微米的微结构加工技术都可称之为mems工艺制造，其在半导体和微电子工艺基础上发展而来，以光刻，镀膜，刻蚀，刻蚀微纳加工实验室，外延，氧化，生物芯片微纳加工实验室，溅射等许多基本的工艺制造复杂立体的三维微加工技术。与传统机械系统相比，不仅体现在很小的体积方面，光电器件微纳加工实验室，其在力学i，运动学，材料特性等方面都有---差异！?

　　但无论哪种微小原件都离不开光刻，刻蚀，天津微纳加工实验室，镀膜三大方面，就是在一个或多个循环的基础上形成我们想要得到的元器件，在这个过程中又以光刻技术为重要，所有的mems工艺都离不开光刻。光刻的好坏直接影响后续的镀膜刻蚀等工艺成败。因此在光刻过程中尤其注意图形分辨率以及套刻精度等方面的影响。

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