氧化硅材料刻蚀公司-半导体研究所(商家)

材料刻蚀公司——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

具体步骤为：

1、将装有待腐蚀硅片的片架放入浸润剂（fuji film driwel）中浸泡10—15s，上下晃动，浸润剂（fuji film driwel）的作用是减小硅片的表面张力，使得腐蚀液更容易和二氧化硅层接触，从而达到充分腐蚀；

2、将片架放入装有二氧化硅腐蚀液（溶液）的槽中浸泡，上下晃动片架使得二氧化硅腐蚀更充分，腐蚀时间可以调整，直到二氧化硅腐蚀干净为止；

3、冲纯水；

4、甩干。

al上cvd腐蚀：

掺磷的sio2是磷硅玻璃，如果psg是长在铝上做钝化层，这时采用二氧化硅腐蚀液腐蚀会伤及铝层，所以一般采用如下腐蚀液：冰：=2：3。具体步骤为：

1、将装有待腐蚀硅片的片架放入浸润剂（fuji film driwel）中浸泡10—15s；

2、将片架放入装有腐蚀液（冰：=2：3）的槽中浸泡，并且上下晃动片架；

3、将片架放入装有溶液（：纯水=1：1）的槽中浸泡；

4、在溢流槽中溢流冲水；

5、冲纯水；

6、甩干。

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mems材料刻蚀加工——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，氧化硅材料刻蚀公司，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

刻蚀设备分类

目前主流所用的是干法刻蚀工艺，利用干法刻蚀工艺的叫等离子体刻蚀机。也分为三大类，分别是介质刻蚀机、硅刻蚀机、金属刻蚀机，这主要是因为电容性等离子体刻蚀设备在以等离子体在较硬的介质材料（氧化物、氮化物等硬度髙、需要髙能量离子反应刻蚀的介质材料；有机掩模材料）上，刻蚀通孔、沟槽等微观结构；电感性等离子体刻蚀设备主要以等离子体在较软和较薄的材料（单晶硅、多晶硅等材料）上，刻蚀通孔、沟槽等微观结构。