光电器件真空镀膜价格-半导体研究所-河南真空镀膜价格

真空镀膜价格mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

2.3.2速度

另一个变量是速度。对于单端镀膜机，镀膜区的传动速度可以在每分钟0~600英寸大约为0 ~ 15.24米)之间选择。对于双端镀膜机，镀膜区的传动速度可以在每分钟0~ 200英寸(大约为0~ 5.08米)之间选择。在给定的溅射速率下，传动速度越低则表示沉积的膜层越厚。

2.3.3气体

后一个变量是气体。可以在三种气体中选择两种作为主气体和辅气体来进行使用。它们之间，任何两种的比率也可以进行调节。气体压强可以在1 ~ 5x 10-3torr之间进行控制。

2.3.4阴极/基片之间的关系

在曲面玻璃镀膜机中，还有一个可以调节的参数就是阴极与基片之间的距离。平板玻璃镀膜机中没有可以调节的阴极。

欢迎来电咨询半导体研究所哟~真空镀膜价格

真空镀膜价格mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

而当工作气压过大时，磁控溅射真空镀膜价格，沉积速率会减小，原因有如下两点:

(1)由于气体分子平均自由程减小，河南真空镀膜价格，溅射原子的背反射和受气体分子散射的几率增大，而且这一影响已经超过了放电增强的影响。溅射原子经多次碰撞后会有部分逃离沉积区域，基片对溅射原子的收集效率就会减小，从而导致了沉积速率的降低。

(2) 随着ar气分子的增多，溅射原子与ar气分子的碰撞次数大量增加，这导致溅射原子能量在碰撞过程中---损失，致使粒子到达基片的数量减少，沉积速率下降。

3.6结论

通过试验，及对结果的分析可以得出如下结论:在其他参数不变的条件下，随着工作气压的增大，沉积增大后减小。在某一个工作气压下，有一个对应的大沉积率。

虽然以上工作气压与沉积率的关系规律只是在纯铜靶材和陶瓷基片上得到的，但对其他不

同靶材与基片的镀膜工艺研究也具有一定的参考价值。

欢迎来电咨询半导体研究所哟~真空镀膜价格