磁控溅射真空镀膜厂家-北京磁控溅射真空镀膜-半导体镀膜

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    2023-3-17

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磁控溅射真空镀膜mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要---半导体产业发展的应用技术研究,---重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,磁控溅射真空镀膜价钱,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。

哪些溅射靶材可用于热反射镀膜


锡溅射靶材

锡是一种柔软、有延展性、延展性和高度结晶的银白色金属。当一根锡条被弯曲时,磁控溅射真空镀膜厂家,可以从晶体的孪晶中听到一种被称为“锡哭”的噼---声。锡在约 232 ℃(450 ℉)的低温下熔化,是第i 14 组中低的。对于 11 nm 标准,磁控溅射真空镀膜价格,熔点进一步降低至 177.3 ℃(351.1 ℉)。

硅溅射靶材

硅溅射靶材主要用于反应磁控溅射以沉积介电层,例如sio2和sin。作为的功能性薄膜材料,它们具有---的硬度、光学、介电性能和耐磨性。硅靶材的耐蚀性在光学和微电子领域具有广阔的应用前景,目前在范围内被广泛用作功能材料。目前主要用于lcd透明导电玻璃、建筑low-e玻璃、微电子行业。硅溅射靶材可分为单晶和多晶两种。我们通过 czochralski 晶体生长法生产平面硅溅射靶材。




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3试验

3.1试验目的

熟悉真空镀膜的操作过程和方法。

了解磁控溅射镀膜的原理及方法。

学会使用磁控溅射镀膜技术。

研究不同工作气压对镀膜影响。

3.2试验设备

saj-500真空磁控溅射镀膜机(配有纯铜靶材) ;气瓶;陶瓷基片;擦镜纸。

3.3试验原理

3.3. 1磁控溅射沉积镀膜机理

磁控溅射系统是在基本的二极溅射系统发展而来,解决二极溅射镀膜速度比蒸镀慢很多、等离子体的离化率低和基片的热效应明显的问题。磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置强力磁铁,真空室充入0.1~ 10pa压力的惰性气体(ar),作为气体放电的载体。




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真空镀膜冷水机结构:

1、真空泵(进口);

2、水箱、水泵;

3、冷却塔;

4、冷凝器;

5、压缩机;

6、过滤器;

7、膨胀阀;

8、压力表;

9、电控箱。

真空泵的作用是将压缩空气进行减压,然后送到水箱里。

水箱的作用是储存冷媒水,并起到散热作用。 水泵的作用是将冷媒水加压送入冷却塔中。 冷凝器的作用是使进入蒸发器的热交换气体降温,同时将制冷剂在蒸发器中的液化气放掉一部分。

膨胀阀的作用是当制冷系统出现故障时自动开启排气口,释放出系统中多余的压力和热量。

电控柜的功能是对整个系统的控制及保护功能。(包括对温度的控制、压力的监控、过电流的保护等等)。




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