半导体材料-半导体光刻定制价钱-山东半导体光刻定制

微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

接触式---只适于分立元件和中、小规模集成电路的生产。

光刻---系统：接触式---和非接触式---的区别，在于---时掩模与晶片间相对关系是贴紧还是分开。接触式---具有分辨率高、复印面积大、复印精度好、---设备简单、操作方便和生产等特点。但容易损伤和沾污掩模版和晶片上的感光胶涂层，影响成品率和掩模版寿命，对准精度的提高也受到较多的---。一般认为，接触式---只适于分立元件和中、小规模集成电路的生产。非接触式---主要指投影---。在投影---系统中，掩膜图形经光学系统成像在感光层上，掩模与晶片上的感光胶层不接触，不会引起损伤和沾污，成品率较高，对准精度也高，能满足高集成度器件和电路生产的要求。但投影---设备复杂，技术难度高，因而不适于低档产品的生产。现代应用广的是 1:1倍的全反射扫描---系统和x:1倍的在硅片上直接分步重复---系统。

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光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。

光刻涂胶四周呈现放i射性条纹，主要可能的原因是光刻胶有颗粒、衬底未清洗干净，表面有颗粒、滴胶后精致时间过长，部分光刻胶固话，解决的方法主要有更换光刻胶，使用新的光刻胶涂胶来测试一下、将衬底再清洗一次再涂胶、滴胶后马上旋涂，以免光刻胶有所固化

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