陕西光刻工艺加工-半导体加工-图形光刻工艺加工

微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

常用的光刻机是掩模对准光刻，所以它被称为掩模对准系统。

正胶光刻的基本流程：衬底清洗、前烘以及预处理，mems光刻工艺加工，涂胶、软烘、---、显影、图形检查，后烘。负胶光刻的基本流程：衬底清洗、前烘以及预处理、涂胶、软烘、---、后烘、显影、图形检查。

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微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

接触式光刻机的掩模版包括了要到衬底上的所有芯片阵列图形。

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，---是近年来---和---规模集成电路的发展，更是大---进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的---酸脂就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光---后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，图形光刻工艺加工，而后---燥成胶膜。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。

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